Optima 8x00 Series ICP-OES

Ứng dụng trong phân tích môi trường, dược phẩm/dinh dưỡng, địa hóa, thực phậm/an toàn sản phẩm.
Tổng quan chung về  Optima 8x00 Series ICP-OES
Plasma: nhiệt độ ion hóa của argon ở Plasma lên tới 10.000k, làm cho mẫu ion hóa hoàn toàn và tránh bị nhiễu hóa học. Plasma vẫn duy trì sự ổn định ở  tốc độ dòng Argon thấp (òng argon của Plasma thấp hơn 8L/phút ) đồng nghĩa với việc giảm thiểu sử dụng Argon.
Vật liệu làm Flat Plate: làm bằng nhôm chất lượng cao, có bề mặt lớn hơn sơ với thiết bị truyền thống, ít bị mòn đi khi nhiệt độ thay đổi, bề mặt lớn hơn so với vòng cuộn truyền thống nên tỏa nhiệt tốt hơn, không cần làm mát và không bị oxi hóa bởi nhiệt độ cao. Dạng nguyên tố kim loại được xác định dựa trên vị trí của những tia photon (được tách bằng hệ thống quang) phát ra khi nguyên tử hoặc ion nhận năng lượng và trở về trạng thái ban đầu, và nồng độ của mỗi nguyên tố trong thì được xác định dựa trên cường độ của các tia photon này.


Giới thiệu: Optima 8x00 Series ICP-OES

- Một  trong những hệ thống phổ biến nhất
- Đơn giản hóa trong việc phát triển phương pháp cho ICP-OES
- Giảm đáng kể chí phí vận hành.
- Mẫu sau khi vào hệ thống sẽ được : làm khô, nguyên tử hóa, Ion hóa sử dụng Công nghệ Flat Plate Plasma: Cuộn vòng (helical induction coil) tạo ra sóng vô tuyến RF ở các hệ thống truyền thống được thay thế bằng công nghệ Flat Plate Plasma- RF được tạo ra từ 2 vòng nhôm //. Sử dụng công nghệ này vẫn sử dụng phần dẫn mẫu vào hệ thống như ở các hệ thống ICP truyền thống và đạt được kết quả phân tích chính xác hơn.
Buồng chứa Plasma

Hình 1. Ảnh chụp plasma sử dung Flat Plate Plasma

Với công nghệ này: Plasma sẽ không phải bảo trì, tin cậy cao, tiêu thụ ít khí argon hơn ( bằng một nửa so với hệ thống truyền thống), phí vận hành thấp hơn.
 Hình 1. Đầu trên cùng viền đỏ bằng phẳng và rộng hơn so với cộng nghệ tạo Plasma cũ, mẫu sẽ khó bị thất thoát ra khỏi các cạnh.

Hình 2. Ảnh Plasma sử dụng Flat Plate Plasma

 Hình 2. Sự cân đối của Plasma xung quanh trục, và sự ổn định ở hình dạng Plasma.

Từ trái qua: Điều chỉnh tháp, Flat plate Plasma, hệ thống cắt khí.

Phần mềm điều khiển: Winlab32
Một số bộ phận thay thế Optima 8x00 Series

Quartz Torches

Có 3 loại tùy thuộc vào ứng dụng:
- Không có khe cắm, sử dụng cho dung môi hữu cơ  Part. No N0780133
- 1 khe cắm, chuẩn dành cho dung môi nước             Part.No N0780130
- 3 khe căm, điển hình dành cho phân tích hữu cơ     Part.No N0780132







- Hệ thống quang học: sử dụng 2 SCD detector đo tất cả các dải sóng UV/Vis loại bỏ nhiễu, và làm tăng độ chính xác.

Optima 8000: khả năng vận hành, CCD Detector.
Optima 8300: hai SCD Detectors,  giới hạn phát hiện tốt hơn, thực hiện đo nhiều đo đạc các nguyên tố khác nhau trong cùng một mẫu.

Ứng dụng: Phân tích kim loại trong dầu nhờn
http://www.perkinelmer.com/CMSResources/Images/44-130931APP_Optima8300ElementsInOil.pdf
Cần biết thêm thông tin vui lòng để lại lời nhắn
Xem thêm
Chuẩn bị mẫu cho ICP-OES.
Phân tích kết quả.
Hệ thống được chuyển giao bởi SISC